(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202211187420.6 (22)申请日 2022.09.28 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 115272329 A (43)申请公布日 2022.11.01 (73)专利权人 中科卓芯 半导体科技 （苏州） 有限 公司 地址 215600 江苏省苏州市张家港市塘桥 镇妙桥科创路6号 东城科技创业园C幢 (72)发明人 杨伟　谢双军　 (74)专利代理 机构 苏州润桐嘉 业知识产权代理 有限公司 32 261 专利代理师 李蓉蓉 (51)Int.Cl. G06T 7/00(2017.01)G06Q 10/04(2012.01) G06Q 50/04(2012.01) G06V 10/74(2022.01) G01N 21/956(2006.01) (56)对比文件 CN 113011435 A,2021.0 6.22 CN 108037142 A,2018.0 5.15 柴进平.高反光陶瓷基片缺陷检测. 《湖北汽 车工业学院学报》 .202 2,全文. 审查员 朱雪梅 (54)发明名称 一种基于图像检测的掩膜版生产优化方法 及系统 (57)摘要 本发明公开了一种基于图像检测的掩膜版 生产优化方法及系统， 涉及掩膜版数据处理领 域， 其中， 所述方法包括： 得到生产参数信息； 得 到初始图像采集结果， 根据定位特征识别结果进 行初始图像采集结果的位置校正； 对完成位置校 正的初始 图像采集结果进行分区域异常特征匹 配， 得到异常特征匹配结果， 在第二图像采集时 间进行目标掩膜版的图像采集， 得到认证图像采 集结果； 结合初始图像采集结果进行同位置特征 比对， 获得新增特征信息； 根据关联关系构建结 果生成生产优化参数； 基于生产优化参数进行掩 膜版的生产优化。 达到了提高掩膜版的图像检测 的准确性， 进而提高掩膜版的缺陷检测 效果， 有 效地提升了掩膜版的生产质量 等技术效果。 权利要求书2页 说明书10页 附图2页 CN 115272329 B 2022.12.30 CN 115272329 B 1.一种基于 图像检测的掩膜版生产优化方法， 其特征在于， 所述方法应用于优化控制 系统， 所述优化控制系统与图像采集装置通信连接， 所述方法包括： 采集目标掩膜版的标识信息， 基于所述标识信息进行所述目标掩膜版的生产信息调 用， 得到生产参数信息； 通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采集， 得到初始图像采集结果， 其 中， 所述初始图像采集结果具有第一时间标识； 基于所述初始图像采集结果进行定位特征识别， 基于定位特征识别结果进行所述初始 图像采集结果的位置校正； 对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行分区域异常特征匹配， 得到异常特征匹 配结果， 其中， 所述异常特 征匹配结果具有位置标识； 根据所述第 一时间标识生成第 二图像采集 时间， 在所述第 二图像采集 时间通过所述图 像采集装置进行 所述目标掩膜版的图像采集， 得到认证图像采集结果； 基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采集结果进行同位置特征比对， 获得新增 特征信息， 所述 新增特征信息包括目标掩膜版的  雾状缺陷信息  ； 基于所述新增特征信 息和所述异常特征匹配结果构建所述生产参数信 息的关联关系， 并基于关联关系构建结果 生成生产优化 参数； 基于所述 生产优化 参数进行掩膜版的生产优化。 2.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 基于所述异常特 征匹配结果进行 特征分类， 得到软缺陷特 征集合和硬缺陷特 征集合； 基于所述软缺陷特 征集合生成清洗优化 参数； 通过所述硬缺陷特 征集合进行所述目标掩膜版的可用评价； 当所述可用评价结果满足预期阈值 时， 则通过所述清洗优化参数进行所述目标掩膜版 的清洗处 理。 3.如权利要求2所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 当所述可用评价结果不满足所述预期阈值 时， 则根据所述硬缺陷特征集合生成硬缺陷 修复参数； 基于所述硬缺陷修复参数进行 所述目标掩膜版的硬缺陷修复， 得到修复目标掩膜版； 根据所述硬缺陷修复参数和所述清洗优化 参数获得 更新清洗优化 参数； 基于所述更新清洗优化 参数进行 所述修复目标掩膜版的清洗处 理。 4.如权利要求3所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 对同批次掩膜版的异常特征匹配结果和新增特征信 息进行出现频次匹配， 得到频次占 比统计结果； 基于大数据设定特 征评价值集合； 基于所述特征评价值集合进行新增特征信 息和异常特征匹配结果的特征值计算， 得到 特征值计算结果； 基于所述频次占比统计结果和所述特 征值计算结果得到异常评价 值； 当所述异常评价值满足预期评价阈值 时， 则基于所述新增特征信 息和所述异常特征匹 配结果构建所述 生产参数信息的关联关系， 并基于关联关系构建结果 生成生产优化 参数。 5.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115272329 B 2判断所述定位特 征识别结果是否存在位置异常； 当判断存在位置异常时， 生成所述目标掩膜版的重新置放指令； 根据所述重新置放指令对所述目标掩膜版进行重新置放后， 重新进行图像采集。 6.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 对完成位置校正的所述初始图像采集结果进行特征定位点识别， 得到特征定位点识别 结果； 基于所述特 征定位点识别结果进行 特征尺寸测量， 生成尺寸测量结果； 基于同批次尺寸测量结果进行尺寸同向偏离分析； 通过尺寸同向偏离分析 结果获得 所述生产优化 参数。 7.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 根据所述标识信息获得 所述目标掩膜版的应用反馈信息； 根据所述应用反馈信息匹配优化关联参数； 通过所述优化关联参数进行掩膜版的生产优化。 8.一种基于 图像检测的掩膜版生产优化系统， 其特征在于， 所述系统与图像采集装置 通信连接， 所述系统包括： 信息调用模块， 所述信息调用模块用于采集目标掩膜版的标识信息， 基于所述标识信 息进行所述目标掩膜版的生产信息调用， 得到生产参数信息； 第一图像采集模块， 所述第 一图像采集模块用于通过所述图像采集装置进行所述目标 掩膜版的图像采集， 得到初始图像采集结果， 其中， 所述初始图像采集结果具有第一时间标 识； 识别校正模块， 所述识别校正模块用于基于所述初始图像采集结果进行定位特征识 别， 基于定位特征识别结果进行 所述初始图像采集结果的位置校正； 异常特征匹配模块， 所述异常特征匹配模块用于对完成位置校正的所述初始图像采集 结果进行分区域异常特征匹配， 得到异常特征匹配结果， 其中， 所述异常特征匹配结果具有 位置标识； 第二图像采集模块， 所述第 二图像采集模块用于根据所述第 一时间标识生成第 二图像 采集时间， 在所述第二图像采集时间通过所述图像采集装置进行所述目标掩膜版的图像采 集， 得到认证图像采集结果； 特征比对模块， 所述特征比对模块用于基于所述认证图像采集结果和所述初始图像采 集结果进行同位置特征比对， 获得新增特征信息， 所述新增特征信息包括 目标掩膜版的雾 状缺陷信息  ； 生产优化参数确定模块， 所述生产优化参数确定模块用于基于所述新增特征信 息和所 述异常特征匹配结果构建所述生产参数信息的关联关系， 并基于关联关系构建结果生成生 产优化参数； 生产优化模块， 所述生产优化模块用于基于所述生产优化参数进行掩膜版的生产优 化。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115272329 B 3